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泊菲萊原位高真空紅外光譜系統(tǒng)

泊菲萊原位高真空紅外光譜系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:泊菲萊原位高真空紅外光譜系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域 ▲特別適用 ●較為適用 ○可以使用
▲ 紅外光譜吸附表征和催化劑酸性測(cè)定;
▲ 催化劑表面CO、NO、CH3OH、C2H5OH等小分子化合物的化學(xué)吸附測(cè)定和活性表征;
▲ 用氨、吡啶等對(duì)催化劑表面進(jìn)行酸性位的測(cè)定。

產(chǎn)品型號(hào): PL-HV

所屬分類(lèi):泊菲萊光電熱催化系統(tǒng)

更新時(shí)間:2023-08-03

廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

詳情介紹
品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子

關(guān)鍵特征

● 專業(yè)的原位紅外表征測(cè)試組件,滿足樣品原位紅外表征測(cè)試需求。并可與Bruker、Nicolet、PE等國(guó)內(nèi)外紅外光譜儀聯(lián)用;

● 系統(tǒng)具有很高氣密性,可滿足原位紅外表征實(shí)驗(yàn)所需的吸脫附高真空要求;

● 裝置采用玻璃材質(zhì),從結(jié)構(gòu)上杜絕金屬吸附對(duì)實(shí)驗(yàn)造成的影響,避免探針?lè)肿拥南嗷ジ蓴_;

● 透射式原位池,可對(duì)樣品進(jìn)行烘烤、流動(dòng)氧化還原、抽空脫氣、吸附反應(yīng)等處理過(guò)程。


應(yīng)用領(lǐng)域     ▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲  紅外光譜吸附表征和催化劑酸性測(cè)定;

▲  催化劑表面CO、NO、CH3OH、C2H5OH等小分子化合物的化學(xué)吸附測(cè)定和活性表征;

▲  用氨、吡啶等對(duì)催化劑表面進(jìn)行酸性位的測(cè)定。


技術(shù)系統(tǒng)


● 限壓強(qiáng):玻璃四級(jí)擴(kuò)散泵10-6  Pa;分子渦輪泵10-9  Pa

● 指針式壓力表:測(cè)量范圍-0.1 MPa,0.4級(jí)壓力表

● 數(shù)顯高真空計(jì)

測(cè)量與控制范圍:1.0×10-4~1.0×102 Pa

控制精度: ≤ 3 %

● 石英原位紅外池

原位池主體材料: 石英材質(zhì)

原位池窗口材料:CaF2

照射窗口尺寸:Φ30 mm

● 恒溫紅外加熱爐

● 數(shù)顯控溫儀

● 德國(guó)萊寶機(jī)械泵

● 真空系統(tǒng)主體材質(zhì):高硼硅玻璃




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