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沈陽科晶 1700℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐每個溫區(qū)長300mm,由30段智能溫度調節(jié)儀進行控溫，采用硅鋁棒加熱元件溫度 可達1700tJ,采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400tJ,通過調節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內溫度場形成一溫度梯度。本機可用于CVD或 PVD方法來生長納米材料和制作各種蒲膜。

沈陽科晶 1700℃真空高溫管式爐采用ISOOP級硅鋁棒為加熱元件，高溫度可達到1700P,可廣泛地用于真空或惰性 氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。

沈陽科晶 1700℃真空管式爐采用30段程控PID控溫儀，高溫度可達到1700P,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下 材料的燒結和退火。

沈陽科晶 1700℃高溫真空氣氛管式爐采用1700P級硅鋁棒為加熱元件，高溫度可達到170013,可廣泛地用于真空或惰性 氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。

沈陽科晶1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn)，針對電子陶瓷的 預燒、燒結、緩膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝。